<div> 磁控溅射法制备Cu<sub>x</sub>Al<sub>y</sub>催化剂应用于电催化二氧化碳还原反应的研究 </div>

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磁控溅射法制备Cu_xAl_y催化剂应用于电催化二氧化碳还原反应的研究

出版日期:2026-06-20 发布日期:2026-07-05

Online:2026-06-20 Published:2026-07-05

摘要/Abstract

摘要：

高国柱, 程雅慧, 刘晖.

磁控溅射法制备Cu_xAl_y催化剂应用于电催化二氧化碳还原反应的研究

[J]. 南开大学学报（自然科学版）, 2026,(3): 16-.